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电子行业光刻气体
林德为全球激光器、步进光刻机和扫描仪领域的主要制造商以及众多顶级半导体制造商，提供高质量激光气体和混合气体
全球主要的激光、步进和扫描仪制造商以及许多世界上最大的半导体制造商都依赖我们最高质量的激光气体和混合物
历经时间考验
二十多年来，准分子激光行业始终信赖我们的光刻气体。这些气体不但应用于最早光刻激光器的开发，而且现在已成为半导体行业中DUV光刻技术应用最广泛的准分子气体。
全球数以千计的晶圆步进光刻机和扫描仪激光器采用林德高品质光刻气体和混合气体。
我们的客户群体包括全球主要的激光器、步进光刻机和扫描仪制造商，以及众多全球大型半导体制造商。他们深知可以依赖林德的高品质激光气体，以及我们对关键气体技术的深刻理解。
⦁ 同时，林德“卓越中心”不断推出创新技术，主要专业领域涵盖：全品类产品 - 在制造和提纯光刻技术所需所有原材料方面，林德位居市场前列
⦁ 钢瓶技术 - 在进行惰性气体和卤素（F2）气体钢瓶管理方面，林德掌握了众多相关专利技术
⦁ 混合能力 - 我们率先开发了高度专业化的混合技术，可生成完全均匀的多组分混合气体分析技术 - 我们研发了超越行业标准的专利分析技术。所有SPECTRA®光刻包装气均附带分析证书
用于准分子激光器的稀有气体和卤素混合气体
我们为电子制造中的全系列准分子激光光谱提供所需的混合气体.
⦁ 308纳米的XeCl
⦁ 248纳米的KrF
⦁ 193纳米的ArF
我们还支持众多研发领域与非电子领域的准分子激光器开发。
用于“浸没式光刻技术”的超高纯度二氧化碳
浸没式光刻技术显著扩展了193纳米DUV步进光刻机的缩放范围。林德的超高纯（UHP）二氧化碳能够替代氮气和其他气体（浸入水中可能导致缺陷气泡），实现这一工艺。我们在全球多数地区可提供液态超高纯二氧化碳，以及现场纯化服务。
极紫外光刻的大宗氢气解决方案
极紫外（EUV）光刻技术是推动当前尖端半导体设计发展的新一代技术。以液态锡为发光介质的商用光源的清洁需要使用大量的氢气。林德提供全面的大宗和现场氢气解决方案，可满足该领域不断增长的需求。
